当真空中有一束离子束射向一块固体材料时，把离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料表面，这个现象叫做溅射；而当离子束射到固体材料时，从固体材料表面弹了回来，或者穿出固体材料而去，这些现象叫做散射；另外有一种现象是，离子束射到固体材料以后，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并终停留在固体材料中，这一现象就叫做离子注入。

离子注入技术原理：

　　是近30年来在国际上蓬勃发展和广泛应用的一种材料表面改性高新技术，其基本原理是：用能量为100keV量级的离子束入射到材料中去，离子束与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和化学的相互作用，入射离子逐渐损失能量，终停留在材料中，并引起材料表面成分、结构和性能发生变化，从而优化材料表面性能，或获得某些新的优异性能。此项高新技术由于其独特而突出的优点，已经在半导体材料掺杂，金属、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上获得了极为广泛的应用，取得了巨大的经济效益和社会效益。

　　离子注入作为微电子工艺中重要的掺杂技术，在优化材料表面性能方面发挥着关键作用。离子注入工艺对材料的高温性能和耐化学侵蚀性能要求非常高，因此，电离室主要部件均采用由钨、钼或石墨材料。盟昌对离子注入行业用钨钼材料进行生产研发，拥有稳定的生产工艺和丰富的经验。

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